研究?#34892;?/h2>

国?#19994;?#26041;联合工程研究?#34892;?/p>

新闻资讯

2019-05-29

合?#36866;?#21103;市长彭庆恩一行赴苏大维格集团洽谈项目对接事宜

5月29日,苏大维格集团迎来了合?#36866;?#21103;市长彭庆恩一行,集团董事长陈林森、总裁朱志坚、副总裁周小红等多位高层领导全程陪同,双方就进一步推进项目对接进行交流探讨,展望了新时期合作共赢的空间,来宾对于苏大维格集团未来的发展方向表示认同。

2019-05-28

科技部副?#24425;?#21592;廖建华一行来苏调研军民融合重点单位

为落实军民融合发展战略和创新驱动发展战略,5月28日,廖建华副?#24425;?#21592;带队来到苏州苏大维格科技集团股份有限公司进行调研,深入了解核心技术产品情况,并听取了军民融合项目发展情况的汇报。

2019-05-21

新起点、新征程——苏大维格(盐城)光电科技有限公司微纳光学新材料项目开工仪式顺利举行

5月21日,风和日丽,万里无云,苏大维格(盐城)光电科技有限公司微纳光学新材料项目在大丰经济开发区举行了厂区建设开工仪式。大丰区委书记薛盛堂、区人大常委会主任范大玉等领导应邀出席,苏大维格集团总裁朱志坚、苏州维旺科技有限公司总经理方宗豹等公司领导及干部均有参加,共同见证苏大维格在不断发展壮大的同时?#33268;?#20986;新的一步。

2019-05-10

2018年度江苏省科学技术奖颁出,苏大维格站上新起点再创新优势

抓创新就是抓发展,谋创新就是谋未来!10日上午,2018年度江苏省科学技术奖励大会隆重举行,276个项目获省科学技术奖,其中一等奖45项、二等奖79项、三等奖152项,7?#31227;?#19994;被授予省企?#23548;?#26415;创新?#34180;?名外籍专家获省国际科学技术合作?#34180;?/p>

 

背光模组超薄导光板(膜)

热压印工?#25112;?#31934;密模具上微结构复制到光滑塑性板材或薄膜表面,微光学网点结构?#34892;?#22320;将全内反射进入导光板(膜)光线导出表面。通过微结构优化中大尺寸导光板(膜),光线从接近正出射角度导出,亮度更高,更均?#21462;?/p>

 

大尺寸透明导电膜(模组)

“基于柔性纳米压印技术”的新型透明导电膜制造技术,采用micro-metal-mesh(M3)制程工艺,颠覆了精密电路需要蚀刻的传统工艺,通过纳米压印和增材制造(选择性生长),获得大幅面高性能透明导电膜和自支撑透明导电材料

 

创新 + 资本+ 产业的官助民营新型研究院

苏州苏大维格科技集团股份有限公司

 

总部

苏州?#34892;?#26124;路68号,苏州工业园区(独墅湖大道南侧,与金堰?#26041;?#21449;口)
电话:+86-512-6286 8882
传真:+86-512-6260 0602
邮箱:[email protected]

最新公告

2019-04-08

苏大维格?#19981;?018年度江苏省科学技术奖一等奖

苏州苏大维格科技集团股份有限公司(以下简称“公司?#20445;?#20110;近日收到江苏 省人民政府下发的《省政府关于 2018 年度江苏省科学技术奖励的决定》[苏政发 (2019)22 号],公司获得 2018 年度江苏省科学技术奖一等?#34180;?/p> 更多信息

2019-01-09

项目介绍:面向微纳3D形貌的紫外光刻直写技术与设备

超薄化、轻量化意味着微纳结构的运用。然而,大面积3D微纳结构的设计与制造面临巨大挑战。首先,大面积3D微纳结构涉及海量数据处理与设计。例如,一个超薄导光器件?#31995;?#24494;透镜有数千万个以上;一件口径10mm以?#31995;?#36229;透镜,含有数十亿到数百亿个数据单元;一幅大尺寸透明电路传感器涉及数十Tb以?#31995;?#25968;据量;大口径薄膜成像透镜涉及精确3D形貌,数据量会数量?#23545;?#22823;;第二,将设计数据转换成微纳结构的途径与效?#30465;?#22914;何将这么庞大数据直接转换成微纳3D结构?不仅需要高速率海量数据并?#20889;?#29702;、压缩、传输与转化技术,还需转换系统的高精度、可调性与可靠性;第三,先进工艺技术保障。大面积衬?#35013;?#38543;着不平整度远大于光刻系统的?#32929;睿?#22240;此,必须解决衬底不平整性对微结构?#30452;?#29575;和保真度的影响,解决与成像?#32929;?#30340;矛盾,才能实现高保真3D微结构的高效率制备。

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2019-01-09

项目介绍:光场调控的纳米光刻设备NanoCrystal200

研究表明,微纳尺度界面与光电子相互作用产生的效应,是设计超材料、超表面的新途径。微纳结构制造技术是实?#30452;?#33180;成像、透明导电、电磁隐身等技术基础。由于3D 形貌及其排列精度对光子材料与器件的特性有极其重要的影响,因而,在大面积衬底上实现纳米精度的微纳结构的高效制备,一直是国?#20351;?#27880;的重大共性难题。

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2019-01-09

项目介绍:微纳3D打印/光刻技术与设备

在微结构打印方案中,已有的3D打印技术存在诸多限制,未?#34892;?#35299;决器件尺寸与精度之间的矛盾、也存在3D结构打印保真度与可靠性不协调的难题。1、利用超快激光的“双光子效应”的3D打印,?#30452;?#29575;可达0.1微米,但串行写入模式,效率极低、对环境稳定性要求极高,打印尺寸一般小于300微米。由于耗时太长,所以,可靠性降低;受制于非线性材料特性和处理工艺,打印一致性很难保障;2、光固化3D打印(SLA),利用胶槽供胶与DLP投影光逐层打印的方法,打印的特征尺寸一般大于50微米,受投影比例限制,打印面积数毫米。由于累积曝光效应,对胶槽中光固化胶的吸收特性有严格要求,易导致打印的结构展宽,尤其对大深宽比微结构的打印,失真严重。

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